進(jìn)口直讀光譜儀測定硅青銅中雜質(zhì)元素

硅青銅是銅合金青銅中的特定牌號，其包括Qsi3-1 ，Qsil -3 ，Qsi0.6-2 ，其要求分析檢測九個(gè)元素，由于分析元素多，標準含量低，使得分析檢測難度較大，根據光電直讀光譜儀的特點(diǎn)，制作了硅青銅的工作曲線(xiàn)和分析程序，并進(jìn)行了比較，滿(mǎn)足了硅青銅的分析要求，檢測結果準確可靠，保證了分析檢測的及時(shí)、快速、準確，節省了大量的人力和物力。

儀器
直讀光譜分析儀SPECTRO LAB S（德國斯派克公司）

實(shí)驗部分

國家標準樣品Q(chēng)si313，成分如下表。

比對校核

取硅青銅標樣Qsi1-3進(jìn)行分析，每個(gè)樣品分析三次取平均值，與化學(xué)定值結果比對，列出部分代表性元素，具體結果見(jiàn)表。

硅青銅標樣對比數據（%）

從表中數據可以看出，其分析結果與化學(xué)定值一致性良好，差值小于允許差，說(shuō)明該分析方法可靠，準確度高。

精密度

取已定值的國家標準樣品Q(chēng)si313-923-11， 進(jìn)行精密度試驗，連續激發(fā)12次，計算平均值、標準偏差、相對偏差，結果見(jiàn)表。

精密度檢驗（%）

從表數據中可以看出，各元素的RSD值均在0.87%~8.39%，精密度非常高，*標準要求。

通過(guò)試驗，證明該分析方法簡(jiǎn)便快速，精密度和準確度高，能夠滿(mǎn)足硅青銅在日常分析檢測的要求，在日常分析檢測中，只要保證試樣面符合分析要求，就能夠保證分析的準確性。

直讀光譜分析儀SPECTRO LAB S

40多年來(lái)，SPECTRO全心投入開(kāi)發(fā)出先進(jìn)的發(fā)射光譜儀。今天，斯派克公司完美引入CMOS探測器技術(shù)，*改變了電弧/火花分析技術(shù)的走向及未來(lái)。在所有同類(lèi)分析儀中，SPECTROLAB S所提供分析速度超出想象，低元素檢測限，同時(shí)也可以提供超長(cháng)的正常運行時(shí)間和非常具有前瞻性的靈活性。

SPECTRO LAB S 擁有基于CMOS的探測器的記錄系統，該系統非常適合于高duan金屬分析。從微量元素到多基體應用，它提供了快速、高度準確、異常靈活的技術(shù)選擇。

樣品的分析速度是儀器先進(jìn)性的重要標志，SPECTRO LAB S的推出*了金屬分析市場(chǎng)對速度的需求。例如：當檢測低合金鋼時(shí)，它可以在20秒或更短的時(shí)間內提供高準確度的測量值！

從技術(shù)指標和實(shí)際使用效果看，SPECTRO LAB S均是適合金屬冶煉廠(chǎng)的測試需求。對于金屬再加工生產(chǎn)商、汽車(chē)和航空航天制造商、以及成品和半成品、電子產(chǎn)品、半導體等制造商來(lái)說(shuō)，可以給出的解決方案同樣出色。

創(chuàng )新點(diǎn)

1、獨立雙光室，確保所有分析譜線(xiàn)都獲得很高分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的光學(xué)系統。一個(gè)光室jing確測量波長(cháng)從120到240納米（nm）;另一個(gè)光室，波長(cháng)范圍從210到800納米（nm）。 兩個(gè)光室都采用先進(jìn)的CMOS檢測器，具備恒溫裝置和壓力補償功能。

2、等離子發(fā)生器數字光源和點(diǎn)火板可靠的新型高能LDMOS等離子發(fā)生器光源，為SPECTROLAB S 輸出高穩定的火花放電，頻率高達1000 Hz，只需要很短的時(shí)間即可完成測試，例如分析低合金鋼小于 20 秒。該系統還允許特定應用的火花參數設置，以?xún)?yōu)化分析性能。

3、精密氬氣控制系統 SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據分析程序精密設置氬氣流量。節約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺，無(wú)需管道連接，避免漏氣。

4、火花臺清理間隔大大延長(cháng) 堅固的陶瓷內芯避免積塵粘附。流暢的氣路設計確保了很少的粉塵殘留（使得清理間隔時(shí)間延長(cháng)了8倍）；對于大樣品量輸出的全自動(dòng)光譜儀系統尤為重要。

5、快速讀出系統 斯派克的GigE創(chuàng )新讀出系統確保海量數據的極速處理，從而支持儀器性能表現。實(shí)現了*的全光譜范圍譜圖記錄。

6、低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術(shù)，在關(guān)鍵元素的檢測限方面，超越光電倍增管技術(shù)的性能。通過(guò)配置參比通道，工作曲線(xiàn)可以獲得很好優(yōu)化，可以快速定量分析ppm量級的高純金屬或合金中的痕量元素。

7、元素在低合金鋼中平均檢測限改善2倍，元素在純鋁中的平均檢測限改善5倍。

8、單一標樣實(shí)現整個(gè)系統的標準化, 此項每天可節省30分鐘工作時(shí)間。